掃描電子顯微鏡（SEM）中的電子束是通過以下步驟生成和控制的：

電子源： SEM的核心部件之一是電子源，通常使用熱陰極或場發(fā)射電子槍。熱陰極通過加熱材料（通常是鎢絲）來發(fā)射電子，而場發(fā)射電子槍則通過應用高電場使電子從頭部發(fā)射。這些電子源會釋放能量較低的電子，然后將它們聚焦成束。

電子束聚焦： 一旦電子被釋放，它們經(jīng)過一系列的電磁透鏡來聚焦成細束。聚焦是SEM中至關重要的一步，它決定了圖像的分辨率和清晰度。主要的透鏡包括電子透鏡、凸透鏡和阿貝透鏡。

電子束探針： 電子束進一步聚焦后，成為一個電子束探針。這個探針可以探測樣品表面的物理性質，例如電子反射和散射。

電子束掃描： 電子束可以通過透鏡和掃描線圈進行水平和垂直方向的準確移動，從而掃描整個樣品表面。這種掃描方式是SEM圖像生成的基礎，它使得SEM能夠獲得樣品的表面拓撲和形貌信息。

信號檢測和圖像生成： 當電子束與樣品表面相互作用時，它們會引發(fā)多種信號，包括二次電子、反射電子、散射電子等。這些信號被探測器捕獲并轉換成電子圖像。不同的探測器用于不同類型的信號，例如二次電子探測器用于表面拓撲成像。

電子束控制： SEM允許用戶控制電子束的參數(shù)，例如電子束能量、電流、聚焦、對準等。這些參數(shù)可以根據(jù)不同樣品和實驗要求進行調整。

ZEM20臺式掃描電鏡

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