掃描電鏡如何獲得樣品的三維形貌?
日期:2024-11-15
掃描電鏡(SEM)能夠通過(guò)多種技術(shù)獲取樣品的三維(3D)形貌。雖然傳統(tǒng)的SEM圖像通常提供的是樣品表面的二維投影,但通過(guò)一些先進(jìn)的技術(shù)和方法,可以推導(dǎo)出樣品的三維結(jié)構(gòu)。以下是常見(jiàn)的幾種獲取樣品三維形貌的方法:
1. 電子束傾斜成像(Tilted Imaging)
原理:通過(guò)傾斜樣品相對(duì)于電子束的角度,掃描電鏡可以從多個(gè)不同的視角拍攝圖像。這些圖像可以組合成一個(gè)樣品的三維圖像。
步驟:首先,獲取樣品在不同傾斜角度下的二維掃描圖像(通常是以10°、20°、30°等間隔進(jìn)行傾斜)。
通過(guò)軟件處理這些圖像,利用不同視角的信息來(lái)重建樣品的三維形貌。
優(yōu)點(diǎn):這種方法相對(duì)簡(jiǎn)單,且不需要特殊的設(shè)備,但需要較高的樣品傾斜角度和多個(gè)圖像以獲得較好的三維信息。
局限性:圖像重建的精度受限于圖像的數(shù)量和傾斜角度。且當(dāng)樣品表面復(fù)雜時(shí),重建可能不夠準(zhǔn)確。
2. 焦深掃描(Depth of Field Imaging)
原理:在掃描電鏡中,焦深較小,因此樣品的不同深度位置無(wú)法在同一張圖像中同時(shí)對(duì)焦。通過(guò)分別對(duì)樣品不同深度的多個(gè)圖像進(jìn)行掃描,可以得到樣品的高度信息。
步驟:在樣品表面進(jìn)行多次掃描,每次調(diào)整焦距,獲得不同焦距下的圖像。
將這些圖像合成一個(gè)更為清晰的三維圖像,通常通過(guò)圖像堆疊或三維重建算法實(shí)現(xiàn)。
優(yōu)點(diǎn):可以獲得較高的圖像分辨率,適用于樣品表面有較大形貌變化的情況。
局限性:焦深掃描需要多次圖像獲取和處理,可能較為耗時(shí)。
3. 共聚焦掃描電鏡(Confocal SEM)
原理:共聚焦掃描電鏡結(jié)合了共聚焦顯微鏡的技術(shù),能夠通過(guò)掃描樣品的不同焦深來(lái)獲得樣品表面不同深度的圖像。這種方法能獲取更精細(xì)的三維信息。
步驟:使用共聚焦掃描系統(tǒng),通過(guò)調(diào)整焦距來(lái)獲得樣品不同深度的圖像。
將這些圖像結(jié)合起來(lái),進(jìn)行三維重建。
優(yōu)點(diǎn):具有較高的分辨率,特別適用于表面不規(guī)則的樣品。
局限性:設(shè)備較為復(fù)雜且成本較高,操作難度也比傳統(tǒng)SEM大。
4. 背散射電子成像(Backscattered Electron Imaging,BSE)
原理:背散射電子成像通過(guò)檢測(cè)樣品表面或近表面的電子散射信號(hào)來(lái)獲取有關(guān)樣品形貌和成分的信息。通過(guò)對(duì)不同散射角度的電子信號(hào)進(jìn)行分析,能夠提供關(guān)于樣品高度變化的額外信息。
步驟:使用BSE模式獲取樣品的表面圖像。
結(jié)合樣品的物理特性和散射信息,重建樣品的三維形貌。
優(yōu)點(diǎn):BSE圖像能提供比傳統(tǒng)二次電子成像(SE)更深層次的信息,適合于高原子序列元素的表面成像。
局限性:該技術(shù)依賴于樣品的材質(zhì)和表面性質(zhì),且圖像的分辨率通常較低。
5. 三維重建(3D Reconstruction)
原理:通過(guò)獲取樣品的多個(gè)二維圖像,運(yùn)用計(jì)算機(jī)算法將這些圖像進(jìn)行拼接和重建,從而得到樣品的三維形貌。
步驟:獲取多個(gè)二維圖像,通常通過(guò)傾斜成像或焦深掃描技術(shù)獲得。
使用圖像處理軟件(如ImageJ、Amira、Avizo等)進(jìn)行圖像的拼接、深度標(biāo)定和三維重建。
優(yōu)點(diǎn):能夠得到較為精確的三維形貌,特別適合復(fù)雜表面的樣品。
局限性:圖像拼接和重建過(guò)程需要計(jì)算量較大,且要求圖像質(zhì)量較高。
6. 斷層掃描電子顯微鏡(Electron Tomography)
原理:斷層掃描電子顯微鏡是一種通過(guò)對(duì)樣品進(jìn)行多個(gè)角度的掃描成像,結(jié)合計(jì)算機(jī)斷層掃描(CT)技術(shù)來(lái)獲得樣品的三維結(jié)構(gòu)。這種方法可以獲得非常高分辨率的三維圖像,尤其適用于細(xì)微結(jié)構(gòu)的分析。
步驟:通過(guò)對(duì)樣品的不同傾斜角度(例如,從-60°到+60°)進(jìn)行掃描,獲取多個(gè)二維圖像。
使用電子斷層重建算法(如ART算法、SIRT算法)將這些圖像合成三維體積圖像。
優(yōu)點(diǎn):能提供非常精確的三維重建,適用于復(fù)雜的微觀結(jié)構(gòu),如細(xì)胞、納米材料等。
局限性:對(duì)樣品的要求較高,通常需要樣品薄切片,并且需要較長(zhǎng)的掃描時(shí)間和強(qiáng)大的計(jì)算資源。
7. 掃描探針顯微術(shù)(SPM)與SEM結(jié)合
原理:通過(guò)將掃描探針顯微術(shù)(如原子力顯微鏡 AFM)與掃描電鏡相結(jié)合,能夠在同一系統(tǒng)下同時(shí)獲得表面形貌的三維信息。SPM技術(shù)通過(guò)探針直接接觸樣品表面,得到樣品的高度變化信息,而SEM則提供高分辨率的表面形貌圖像。
步驟:使用AFM掃描樣品表面,獲取樣品的三維高度數(shù)據(jù)。
將AFM數(shù)據(jù)與SEM圖像結(jié)合,通過(guò)軟件重建樣品的三維形貌。
優(yōu)點(diǎn):提供三維表面分辨率,能夠同時(shí)獲得化學(xué)成分信息和三維形貌。
局限性:該方法需要在SEM和SPM之間切換,設(shè)備較為復(fù)雜且成本較高。
8. 3D FIB-SEM(聚焦離子束掃描電子顯微鏡)
原理:FIB-SEM結(jié)合了掃描電子顯微鏡和聚焦離子束技術(shù)。FIB技術(shù)可以用來(lái)逐層切削樣品,而SEM則用于在每個(gè)切削層上獲取圖像。通過(guò)多層切割和圖像采集,可以實(shí)現(xiàn)樣品的高分辨率三維重建。
步驟:使用FIB在樣品表面逐層切割,通常切削深度在幾十納米至幾百納米之間。
每次切割后,通過(guò)SEM成像獲取該層的表面圖像。
利用計(jì)算機(jī)軟件將這些圖像重建為三維結(jié)構(gòu)。
優(yōu)點(diǎn):能夠提供非常精確的樣品三維形貌,適用于高分辨率的三維分析,特別是納米級(jí)結(jié)構(gòu)。
局限性:樣品損傷較大,切削過(guò)程可能會(huì)改變樣品的原始結(jié)構(gòu),需要在樣品較為堅(jiān)固的情況下使用。
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作者:澤攸科技