掃描電鏡如何進行斷層成像?
日期:2025-02-08
掃描電鏡(SEM)通過斷層成像可以獲得樣品內部的三維結構信息。這種方法通常被稱為聚焦離子束掃描電鏡(FIB-SEM)斷層成像,或者是通過特定的軟件結合多視角圖像進行重建。以下是常見的實現(xiàn)方式和操作步驟:
1. 基于 FIB-SEM 的斷層成像
原理:
FIB(聚焦離子束)用來去除樣品表層的微薄層。
SEM 在每次去除后掃描樣品的截面圖像。
多次重復操作,獲得一系列連續(xù)的二維圖像。
圖像經過處理和重建,生成三維結構。
具體步驟:
樣品制備:
將樣品安裝在樣品臺上,通常需要鍍導電層(如金或碳)以避免電荷積累。
根據(jù)研究目標,可能需要對樣品進行切割或固定,以確保目標區(qū)域能夠被離子束處理。
區(qū)域選擇:
使用 SEM 確定需要進行斷層成像的樣品區(qū)域。
FIB 用來標記切割區(qū)域,定義斷層成像的范圍。
FIB 去除表層:
利用聚焦離子束(通常為 Ga? 離子),逐層去除樣品的材料,去除厚度可以在納米量級精確控制(如 10 nm/層)。
SEM 圖像采集:
每去除一層后,用 SEM 獲取切面圖像。
需要調節(jié) SEM 的工作參數(shù)(如加速電壓、探測器類型)以優(yōu)化圖像質量。
圖像處理:
收集到的所有二維圖像通過去噪、對齊、配準等處理。
使用專門的斷層重建軟件(如 Avizo、Amira 或 ImageJ 的 3D 插件)生成三維模型。
三維重建和分析:
重建后的三維模型可以用于觀察樣品內部結構、分析體積、測量尺寸或評估缺陷。
優(yōu)點:
高分辨率:能夠在納米級分辨率下進行三維重建。
局部化:可以對樣品的特定區(qū)域進行精細分析。
缺點:
破壞性:FIB 處理會損壞樣品。
時間長:需要重復采集和處理圖像,耗時較多。
2. 通過多視角 SEM 圖像重建
原理:
對樣品進行不同角度的 SEM 成像(類似 CT 成像)。
利用計算機算法將這些多視角圖像重建為三維結構。
具體步驟:
樣品旋轉:
使用帶旋轉功能的樣品臺,從不同角度獲取 SEM 圖像。
每次旋轉角度可精確到 1° 或更小,以確保成像的連續(xù)性。
圖像采集:
對樣品進行多角度 SEM 掃描,獲取 2D 投影圖像序列。
保持成像條件一致(如電壓、工作距離、探測器設置)。
圖像重建:
將采集到的多角度圖像輸入斷層重建軟件。
通過算法(如反投影算法、ART 或 FBP)計算樣品的三維結構。
優(yōu)點:
非破壞性:樣品在成像過程中不會被損壞。
更適合輕質材料或對損傷敏感的樣品。
缺點:
分辨率低于 FIB-SEM。
樣品幾何形狀復雜時,可能會導致圖像失真。
3. 基于冷凍斷層的 SEM 成像
原理:
冷凍樣品后,利用 SEM 和 FIB 結合的方式逐層切割和成像。
冷凍保護樣品的內部結構,尤其是生物樣品。
適用場景:
生物學領域(如細胞和組織結構的三維重建)。
水合樣品或易受離子束損傷的材料。
斷層成像應用領域:
材料科學:
分析材料的內部結構、孔隙率和分布特性。
檢測材料缺陷或裂紋。
生物學:
重建細胞或組織的三維結構。
研究亞細胞器的形態(tài)和分布。
半導體行業(yè):
分析晶體管、納米級電路的內部結構。
檢測制造過程中的缺陷或異物。
地質學:
分析巖石或礦物的微觀結構。
測量孔隙度和滲透性。
以上就是澤攸科技小編分享的掃描電鏡如何進行斷層成像。更多掃描電鏡產品及價格請咨詢15756003283(微信同號)。
作者:澤攸科技