臺(tái)式掃描電鏡的成像模式
日期:2023-06-05
臺(tái)式掃描電鏡(SEM)具有多種成像模式,以下是其中常見的幾種:
二次電子成像(SEI):二次電子成像是常用的臺(tái)式掃描電鏡成像模式。它利用從樣品表面發(fā)射的二次電子來形成圖像。二次電子對(duì)樣品表面的拓?fù)浜徒M成非常敏感,能夠提供樣品的表面形貌和細(xì)節(jié)信息。
反射電子成像(BEI):反射電子成像使用從樣品表面反射的電子來形成圖像。與二次電子不同,反射電子可以提供更深入的樣品信息,如晶體結(jié)構(gòu)、材料成分和表面反射率。
透射電子成像(TEI):透射電子成像模式允許電子束穿透樣品,形成透射電子圖像。透射電子成像常用于研究材料內(nèi)部的結(jié)構(gòu)和組織,尤其在材料科學(xué)和生物學(xué)領(lǐng)域中應(yīng)用廣泛。
背散射電子成像(BSEI):背散射電子成像利用從樣品背面散射回來的電子來形成圖像。背散射電子對(duì)樣品的原子序數(shù)和密度非常敏感,因此可以提供有關(guān)樣品組分和晶體結(jié)構(gòu)的信息。
偏置電子成像(SEI+BSEI):偏置電子成像模式結(jié)合了二次電子和背散射電子成像。通過同時(shí)獲取二次電子和背散射電子信號(hào),可以提供更豐富的樣品信息,包括表面形貌和組成。
這些成像模式在臺(tái)式掃描電鏡中可以根據(jù)需要進(jìn)行選擇和調(diào)整。每種模式都有其獨(dú)特的應(yīng)用和優(yōu)勢(shì),可以用于不同類型的樣品研究和分析。根據(jù)研究目的,選擇合適的成像模式可以獲得更詳細(xì)的樣品信息。
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作者:澤攸科技